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相比于傳統陶瓷基板材料,氮化硅陶瓷由于其優(yōu)異的理論熱導率和良好的力學(xué)性能而逐漸成為電子器件的主要散熱材料。關(guān)鍵詞:半導體陶瓷基板氮化硅熱導率然而,目前氮化硅陶瓷實(shí)際熱導率還遠遠低于理論圍繞硅基氮化硅光子芯片晶圓制造存在的損耗高、可靠性差等瓶頸問(wèn)題,開(kāi)展晶圓級超低損耗氮化硅光子芯片工藝研究,探索波導損耗機理,研究高質(zhì)量氮化硅薄膜生長(cháng)的產(chǎn)品孔隙率在1%以下,相對密度99%,體積密度3.23.4g/cm3實(shí)現批量化生產(chǎn)工藝優(yōu)化,產(chǎn)品良品率90%以上建成高強度高導熱氮化硅基板示范產(chǎn)線(xiàn)1 條,基本實(shí)現自動(dòng)化改造,具備氮化硅

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